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- [发明专利]光学多光束扫描装置和图像形成装置-CN201010002399.9无效
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栗林廉
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株式会社东芝;东芝泰格有限公司
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2005-03-21
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2010-11-10
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G02B26/12
- 本发明提供了光学多光束扫描装置和图像形成装置,在光路合成光学部件的剩余光出射面上的后部位置没有足够空间时,可防止剩余光变成杂散光对光源和其他光学部件造成不良影响。多光束扫描装置有多个偏转后光学单元、光路合成部件和剩余光处理部件。偏转前光学单元赋予光源光束预定特性。在偏转前光学单元赋予光束预定特性后或过程中,光路合成部件使光源光束的光路在水平扫描方向成一直线。剩余光处理部件处理剩余光出射面射出的剩余光,剩余光出射面不是光路合成部件的入射面或出射面。剩余光处理部件有多个不同倾角锥形面的多级锥形结构,吸收面与剩余光出射面平行,吸收从剩余光出射面射出的剩余光,重复局部图案分散剩余光出射面射出的剩余光。
- 光学光束扫描装置图像形成
- [发明专利]光学多光束扫描装置和图像形成装置-CN200810081614.1无效
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栗林廉
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株式会社东芝;东芝泰格有限公司
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2005-03-21
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2008-08-13
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G02B26/12
- 本发明提供了光学多光束扫描装置和图像形成装置,在光路合成光学部件的剩余光出射面上的后部位置没有足够空间时,可防止剩余光变成杂散光对光源和其他光学部件造成不良影响。多光束扫描装置有多个偏转后光学单元、光路合成部件和剩余光处理部件。偏转前光学单元赋予光源光束预定特性。在偏转前光学单元赋予光束预定特性后或过程中,光路合成部件使光源光束的光路在水平扫描方向成一直线。剩余光处理部件处理剩余光出射面射出的剩余光,剩余光出射面不是光路合成部件的入射面或出射面。剩余光处理部件有多个不同倾角锥形面的多级锥形结构,吸收面与剩余光出射面平行,吸收从剩余光出射面射出的剩余光,重复局部图案分散剩余光出射面射出的剩余光。
- 光学光束扫描装置图像形成
- [发明专利]光学多光束扫描装置和图像形成装置-CN200510055766.0无效
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栗林廉
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株式会社东芝;东芝泰格有限公司
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2005-03-21
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2005-10-12
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G02B26/10
- 本发明提供了光学多光束扫描装置和图像形成装置,在光路合成光学部件的剩余光出射面上的后部位置没有足够空间时,可防止剩余光变成杂散光对光源和其他光学部件造成不良影响。多光束扫描装置有多个偏转后光学单元、光路合成部件和剩余光处理部件。偏转前光学单元赋予光源光束预定特性。在偏转前光学单元赋予光束预定特性后或过程中,光路合成部件使光源光束的光路在水平扫描方向成一直线。剩余光处理部件处理剩余光出射面射出的剩余光,剩余光出射面不是光路合成部件的入射面或出射面。剩余光处理部件有多个不同倾角锥形面的多级锥形结构,吸收面与剩余光出射面平行,吸收从剩余光出射面射出的剩余光,重复局部图案分散剩余光出射面射出的剩余光。
- 光学光束扫描装置图像形成
- [实用新型]近视防控电子训练装置-CN202120828365.9有效
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姜艳娇
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苏州善目健康科技有限责任公司
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2021-04-19
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2021-11-26
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A61H5/00
- 本实用新型公开了一种近视防控电子训练装置,包括:基板,所述基板具有长度方向相对的第一侧边、第二侧边以及连接第一侧边和第二侧边的工作面,所述基板上设置有至少一组余光提示光源,所述余光提示光源设置在所述基板的邻近第一侧边和第二侧边的工作面;控制器,所述控制器连接所述余光提示光源以控制所述余光提示光源的启闭。近视防控电子训练装置工作时,用户的双眼注视基板的中间,控制器控制余光提示光源的启闭,双眼的余光看向远离基板中间的余光提示光源,控制器控制余光提示光源交替打开和关闭,用户交替进行眼肌训练和休息,通过上述训练
- 近视电子训练装置
- [发明专利]测量荧光量子产率的方法及装置-CN201811115211.4有效
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石广立;张恒
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北京卓立汉光仪器有限公司
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2018-09-25
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2021-05-18
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G01N21/64
- 本发明提供了一种测量荧光量子产率的方法及装置,该方法包括:获取第一发射荧光光子和剩余光子数,第二发射荧光光子和剩余光子数,第三发射荧光光子和剩余光子数,第四发射荧光光子和剩余光子数;根据第二发射荧光光子和剩余光子数,第四发射荧光光子和剩余光子数,确定匀化吸收率;根据匀化吸收率,第一发射荧光光子和剩余光子数,第三发射荧光光子和剩余光子数,确定直射吸收率;根据第一发射荧光光子和剩余光子数,直射吸收率,确定待测样品吸收激发光光子数;根据第三发射荧光光子和剩余光子数,第四发射荧光光子和剩余光子数,匀化吸收率,直射吸收率,确定样品所发射荧光光子数;确定荧光量子产率。
- 测量荧光量子方法装置
- [发明专利]快门挡片的制作方法-CN200910301687.1无效
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庄信弘
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鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
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2009-04-20
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2010-10-20
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G03B9/08
- :提供铍铜基板,所述铍铜基板具有相对的第一表面和第二表面;在第一表面形成第一光阻层,在第二表面形成第二光阻层;对第一光阻层和第二光阻层进行曝光及显影,以使第一光阻层形成与快门挡片形状相对应的多个第一剩余光阻,使第二光阻层形成与快门挡片形状相对应的多个第二剩余光阻,并且每个第一剩余光阻均与一个第二剩余光阻相对应;采用氯化铜的酸性溶液对所述铍铜基板进行蚀刻,从而得到多个分离的快门挡片结构,每个快门档片结构均包括一个第一剩余光阻、一个第二剩余光阻以及一个位于第一剩余光阻和第二剩余光阻之间的快门档片;去除每个快门挡片结构的第一剩余光阻及第二剩余光阻,得到多个快门挡片。
- 快门制作方法
- [发明专利]具挡余光结构之透镜及其模块-CN201210123338.7有效
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罗宇哲;唐德龙
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扬州雷笛克光学有限公司
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2012-04-25
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2013-10-30
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F21V5/04
- 本发明公开一种具挡余光结构之透镜及其模块,其中该具挡余光结构之透镜是呈上宽下窄之杯形结构且其顶部设有一出光面,另外于底部凹设有一第一入光面与一第二入光面而形成一容置空间及一入光孔,该容置空间用以容置一发光源,又该第一入光面凸设有一挡余光结构,用以阻却该发光源之余光。其中该第一入光面与该入光孔之距离为S,而该挡余光结构底端与该入光孔之距离为L,且该挡余光结构相对于该入光孔之距离满足0<L<(3/8)*S,及S≥0.8*D之关系式。该挡余光结构即可阻挡该发光源于该第二入光面处反射所造成之余光现象。
- 余光结构透镜及其模块
- [实用新型]具挡余光结构之透镜及其模块-CN201220179113.9有效
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罗宇哲;唐德龙
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扬州雷笛克光学公司
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2012-04-25
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2013-05-29
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F21V5/04
- 本实用新型公开一种具挡余光结构之透镜及其模块,其中该具挡余光结构之透镜是呈上宽下窄之杯形结构且其顶部设有一出光面,另外于底部凹设有一第一入光面与一第二入光面而形成一容置空间及一入光孔,该容置空间用以容置一发光源,又该第一入光面凸设有一挡余光结构,用以阻却该发光源之余光。其中该第一入光面与该入光孔之距离为S,而该挡余光结构底端与该入光孔之距离为L,且该挡余光结构相对于该入光孔之距离满足0<L<(3/8)*S,及S≥0.8*D之关系式。该挡余光结构即可阻挡该发光源于该第二入光面处反射所造成之余光现象。
- 余光结构透镜及其模块
- [实用新型]一种防余光眼镜-CN202221877662.3有效
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樊俊奇
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樊俊奇
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2022-07-21
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2022-10-21
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G02C7/16
- 本实用新型涉及眼镜,具体为一种防余光眼镜,解决了背景技术中的技术问题,其包括两个余光挡片,眼镜本体的两根眼镜腿上分别嵌入式固定有至少一个第一磁铁,第一磁铁位于眼镜腿的靠近镜片的端部,余光挡片上固连有与第一磁铁吸合的第二磁铁,第二磁铁的数量与第一磁铁的数量相等,余光挡片与眼镜腿吸合后,余光挡片的前端延伸至镜片正前方的两侧。学习时安装上余光挡片,可以在保障有效学习视野区域的同时,屏蔽掉多余的视野范围,提高专注度和学习效率,同时也能起到纠正不良坐姿的效果,减缓近视的发展;当平时生活工作时,就可以将余光挡片卸下,能在不同场景中使用
- 一种余光眼镜
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